by high RF voltage bias (up to 8200 Vp-p)
Standard connection was used in this experiments:
RF power - to base electrode,
DC high voltage – to ESC was applied.
FOI
Plasma R&D
Cathode: N4X05 - 2310
Standard connection was used in this experiments:
RF power - to base electrode,
DC high voltage – to ESC was applied.
FOI
Plasma R&D
Cathode: N4X05 - 2310
Clean surface
Surface after discharge
Surface after discharge
Если не удалось найти и скачать презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:
Email: Нажмите что бы посмотреть