Радиофизический факультет
Л.В.Ищук, доцент, канд. физ.-мат. наук
С.П.Павлюк, зав. лаб., канд. физ.-мат. наук
- Главная
- Разное
- Дизайн
- Бизнес и предпринимательство
- Аналитика
- Образование
- Развлечения
- Красота и здоровье
- Финансы
- Государство
- Путешествия
- Спорт
- Недвижимость
- Армия
- Графика
- Культурология
- Еда и кулинария
- Лингвистика
- Английский язык
- Астрономия
- Алгебра
- Биология
- География
- Детские презентации
- Информатика
- История
- Литература
- Маркетинг
- Математика
- Медицина
- Менеджмент
- Музыка
- МХК
- Немецкий язык
- ОБЖ
- Обществознание
- Окружающий мир
- Педагогика
- Русский язык
- Технология
- Физика
- Философия
- Химия
- Шаблоны, картинки для презентаций
- Экология
- Экономика
- Юриспруденция
Протекание тока экстремально большой плотности в пленках кремния презентация
Содержание
- 1. Протекание тока экстремально большой плотности в пленках кремния
- 2. dSi = 0.4 μm μ = 1400 cm2/V⋅s
- 3. ВАХ и ЛАХ КНИ структуры
- 4. ВАХ КНИ структуры при увеличении (
- 5. ВАХ и ЛАХ КНИ структуры
- 6. Фотографии свечения КНИ структуры 100 мкм х 100 мкм
- 7. Возникновение устойчивого автосолитона
- 8. dSi = 0.4 μm a = 25 μm
- 9. Осциллограммы тока при питании КНИ структуры импульсами напряжения прямоугольной формы
- 10. ВАХ КНИ структуры в режиме генератора импульсов напряжения
- 11. Перераспределение электронно-дырочной плазмы b-дрейфом Плотности токов
- 12. Уравнение сохранения дырок: - термодинамически равновесная концентрация
- 13. Выводы 1. В пленках КНИ при
- 14. Дякую за увагу !
dSi = 0.4 μm μ = 1400 cm2/V⋅s dox = 1 μm n = 5⋅1015 cm-3 dsub = 400 μm a, μm 3 5 10 100 w, μm 50 50 50 100
Слайд 1
Протекание тока экстремально большой плотности в пленках кремния
Киевский национальный университет
имени Тараса Шевченко
Радиофизический факультет
Радиофизический факультет
Слайд 2dSi = 0.4 μm μ = 1400 cm2/V⋅s
dox = 1 μm
n = 5⋅1015 cm-3
dsub = 400 μm
dsub = 400 μm
a, μm 3 5 10 100
w, μm 50 50 50 100
КНИ структура для ислледования в режиме генератора постоянного тока
Слайд 8dSi = 0.4 μm a = 25 μm
dox = 1 μm
w = 4 μm
dsub = 400 μm
dsub = 400 μm
КНИ структура для ислледования в режиме генератора импульсов напряжения
Слайд 11Перераспределение электронно-дырочной плазмы b-дрейфом
Плотности токов электронов и дырок:
При условии
где
-
плотность тока, протекающего в образце;
- коэфициент амбиполярной диффузии.
Слайд 12Уравнение сохранения дырок:
- термодинамически равновесная концентрация дырок;
- время жизни электронно-дырочных пар.
где
диффузия
реком-бинация
германий
кремний
Слайд 13Выводы
1. В пленках КНИ при питании их постоянным током обнаружено
возникновение свечения в виде регулярно расположенных красных пятен. Предложено качественное объяснение эффекта самоорганизацией электронно-дырочной плазмы - возникновением термодиффузионных автосолитонов.
2. При питании КНИ структур прямоугольными импульсами напряжения наблюдались мощные осцилляции тока. Предложен механизм возникновения осцилляций. Показано, что они возникают вследствие совместного действия двух конкурирующих процессов: термической генерации электронно-дырочных пар при возрастании тока и уменьшением концентрации пар b-дрейфом при его уменьшении.
2. При питании КНИ структур прямоугольными импульсами напряжения наблюдались мощные осцилляции тока. Предложен механизм возникновения осцилляций. Показано, что они возникают вследствие совместного действия двух конкурирующих процессов: термической генерации электронно-дырочных пар при возрастании тока и уменьшением концентрации пар b-дрейфом при его уменьшении.
