N.P. Stepina, E.S. Koptev, A.G. Pogosov, A.V. Dvurechenskii, A.I. Nikiforov
Отрицательное МС: VRH модель
Температурная зависимость проводимости
o
СТМ изображение
Ge нанокластеров
Ge нанокластеры в Si
INSTITUTE OF SEMICONDUCTOR PHYSICS, SIBERIAN BRANCH
OF THE RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCE
Зонная структура
Большая плотность КТ позволяет наблюдать прыжковую проводимость вдоль 2D массива КТ
HTREM изображение КТ с плотностью ~4∙1011 см -2
СТМ изображения массива Кт с плотностью ~ 8×1011 см -2 (200×200 нм)
b=B/Btr , Btr=h/2el2, ψ- digamma функция
i
j
2
1
N
μ - амплитуда рассеяния<0, r- длина прыжка
r ~ ξ(T0/T)1/2
тогда
Тем самым, анализируя зависимость
можно определить
Заключение
Если не удалось найти и скачать презентацию, Вы можете заказать его на нашем сайте. Мы постараемся найти нужный Вам материал и отправим по электронной почте. Не стесняйтесь обращаться к нам, если у вас возникли вопросы или пожелания:
Email: Нажмите что бы посмотреть